【導讀】原子層沉積（ALD）工藝被認為是邏輯和存儲半導體器件微縮化的重要推動力。過去20年，ALD工藝及設備已經廣泛應用於邏輯和存儲器件的大批量製造，不斷推動諸如動態隨機存取存儲器（DRAM）、先進的鰭式場效應晶體管（FinFET）以及柵極環繞晶體管等器件性能的改進與創新。隨著摩爾定律放緩，ALD工藝逐漸滲透到更多應用領域，如超摩爾(More-than-Moore
，MtM)器件的生產中
，正在推動新的架構、材料和性能的改進。

調研機構Yole Développement報告顯示，全球晶圓廠產能擴張的舉措正在推動ALD設備銷量的飆升。預計未來幾年，ALD設備在超摩爾應用的市場規模將持續增長，其中2020-2026年的年複合增長率為12%，在2026年有望達到6.8億美元。

Yole Développement針對ALD設備的市場預測

緊跟2022市場需求，SRII推出兩款重磅新品拓展應用布局

致力於滿足半導體製造領域不斷增長的技術需求，業界領先的ALD設備製造商和服務商—青島四方思銳智能技術有限公司（以下簡稱思銳智能或SRII）旗下Beneq品牌全新設計並重磅推出了兩款用於半導體器件製造的新產品：Prodigy和Transform300。

SRII旗下Beneq品牌半導體業務負責人Patrick Rabinzohn表示：“進入2022年，更多樣化、更複雜的新興半導體應用正在崛起，Prodigy專為化合物半導體製造而設計
，包括射頻集成電路（GaAs / GaN / InP）
、LED、VCSEL
、光探測器等相關領域的MEMS製造商和代工廠
，將受益於全新的Prodigy係列，以高性價比實現具有市場競爭力的ALD批量處理能力，並有效提升器件的性能和可靠性。Transform300則在原本優勢的Transform係列上繼續擴充，進一步適用300mm晶圓產品的ALD鍍膜需求，具備卓越的通用性及多功能性，同樣也是FAB-READY，可輕鬆集成到客戶的產線上。”

Prodigy為化合物半導體以及MEMS器件提供具有市場競爭力的ALD解決方案

全新Transform300產品進一步匹配新興半導體應用

Prodigy為化合物半導體和MEMS器件的ALD量產技術樹立了新標杆，能夠滿足由高端ALD技術支持的眾多細分市場，是為8”及以下晶圓和多種材料提供最佳鈍化及薄膜沉積的理想量產方案。Prodigy不僅集成了SRII最新ALD技術，更具備高性價比，易於實現批量處理工藝以提升目標產品性能，適用於75-200mm晶圓產品。

值得一提的是，Transform300是目前市麵上唯一一款結合等離子體增強和熱法ALD有序工藝的300mm ALD集群工具。至此
，Transform係列可為IDM和代工廠提供集單片、批量、等離子體增強及熱法等眾多功能於一體的工藝平台，旨在滿足邏輯和存儲等超大規模集成電路（VLSI）製造
、CMOS圖像傳感器、功率器件、Micro-OLED/LED、先進封裝和更多超摩爾領域的應用場景。

Transform ALD 鍍膜設備介紹視頻鏈接：

https://v.youku.com/v_show/id_XNTgzNzcwMDU4NA==.html

加強產業深度合作

，以先進技術賦能垂直行業創新

萬物互聯時代到來，廣泛類型的傳感器產品重要性日益凸顯。以CMOS傳感器（CIS）這一典型的超摩爾應用為例，隨著芯片集成度的提升
，CIS芯片的結構也在不斷創新
，例如以堆疊方式將圖像傳感器

、存(cun)儲(chu)器(qi)以(yi)及(ji)更(geng)多(duo)邏(luo)輯(ji)元(yuan)件(jian)進(jin)行(xing)統(tong)一(yi)封(feng)裝(zhuang)。為(wei)了(le)實(shi)現(xian)更(geng)優(you)異(yi)的(de)感(gan)光(guang)能(neng)力(li)，往(wang)往(wang)需(xu)要(yao)表(biao)麵(mian)鈍(dun)化(hua)層(ceng)來(lai)減(jian)少(shao)光(guang)子(zi)的(de)損(sun)失(shi)，或(huo)通(tong)過(guo)抗(kang)反(fan)射(she)塗(tu)層(ceng)讓(rang)更(geng)多(duo)的(de)光(guang)子(zi)到(dao)達(da)接(jie)收(shou)器(qi)。在(zai)這(zhe)樣(yang)深(shen)溝(gou)槽(cao)鍍(du)膜(mo)的(de)場(chang)景(jing)中(zhong)，ALD可以實現100%覆蓋，或以不同鍍膜材料、不同鍍膜層數等方式組成不同的折射率、不同的疊層膜配比，從而更好地滿足客戶差異化的需求。

Patrick Rabinzohn表示：“高質量、高保形性和均勻性的薄膜是ALD十分擅長的領域，目前已成為CIS應用的主流。與此同時
，為了麵向更多超摩爾應用，ALD工藝在全球範圍也在不斷開發與完善。SRII是這一全球合作的積極參與者
，正在持續聯合學術界
、研究機構、材料供應商、設備子部件和工具供應商以及計量係統供應商等上下遊機構/廠商展開緊密合作，實現互惠互利、創新發展
，從而確保自有ALD工藝的領先地位。“

目前，在中國市場，SRII與國家智能傳感器創新中心及各大科研院校已經建立戰略合作關係


，共同專注CIS、MEMS等重要領域的聯合研發，致力於加速超摩爾領域的產業落地。

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