中芯國際推出0.11μm圖像傳感器製造技術
發布時間:2008-10-30 來源:中國電子元件行業協會
公司事件:
- 中芯國際開發出了生產0.11μm CMOS圖像傳感器的工藝技術
事件影響:
- 利用此次開發的工藝技術中芯國際中芯國際可以生產更高性能的CMOS傳感器
中國的中芯國際(SMIC)開發出了生產0.11μm CMOS圖像傳感器的工藝技術。其0.11μm工藝技術的布線層所用金屬材料既可使用鋁(Al)也可使用銅(Cu)。該公司已開始了0.11μm工藝技術的試生產,可采用200mm或300mm晶圓生產。
SMIC表示:“利用此次開發的工藝技術可以生產比此前分辨率更高、噪音更低和高對比度的CMOS傳感器”
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