POWDEC推出耐壓600V的低成本縱型GaN類功率二極管
發布時間:2010-12-03 來源:日經BP社
GaN類功率二極管的產品特性:
- 耐壓可確保在 600V以上
- 利用GaN類半導體,仍可低成本製造
- 大幅減少功率損失
GaN類功率二極管的應用範圍:
- 麵向逆變器電路及功率因數校正電路等功率用途
從事GaN外延基板開發及銷售等業務的風險企業POWDEC,開發出了利用GaN類半導體的肖特基勢壘二極管(SBD),並於2010年11月30日在東京舉行了記者發布會。據介紹,該二極管是麵向逆變器電路及功率因數校正電路等功率用途的產品,耐壓可確保在 600V以上。其特點在於,在利用GaN類半導體的情況下,仍可低成本製造。POWDEC認為“原則上有望以相當於LED的低成本製造”。該公司表示,通過使用藍寶石基板,降低製造成本已有了眉目。目標是2012年之前量產。
包括功率晶體管在內的GaN類功率半導體元件,與現有Si製zhi功gong率lv半ban導dao體ti元yuan件jian相xiang比bi,是shi有you望wang大da幅fu減jian少shao功gong率lv損sun失shi的de新xin一yi代dai功gong率lv半ban導dao體ti的de一yi種zhong。隨sui著zhe電dian氣qi特te性xing的de提ti高gao,其qi製zhi造zao成cheng本ben的de削xue減jian成cheng了le開kai發fa上shang的de焦jiao點dian。
為實現GaN類功率半導體元件的成本削減,使用Si基板的方法成了主流。而Si與GaN類半導體的熱膨脹係數及晶格常數不同。因此,為了減輕這一差異,一般要在Si基板上層疊稱為“緩衝層”的多層膜。然而,“多層膜的製造時間較長,容易導致製造成本上升”(POWDEC)。
另外,在Si基板上製造的GaN類功率半導體元件,以各種電極橫向排列的橫型構造為主流。如果是二極管的話,陰極和陽極呈橫向排列。但橫型GaN 類半導體元件存在難以提高電氣特性的課題。比如,在施加高逆電壓後再施加順電壓使電流流過時,容易發生電流值比初始值降低的“電流崩塌效應”。而且,耐壓也很難提高。
要確保出色的電氣特性,並實現芯片表麵配置陽極、背麵配置陰極的縱型構造,就需要采用GaN基板。但GaN基板不僅口徑小隻有2英寸,而且價格也高。藍光光驅的光源使用的藍紫色半導體激光器就普遍使用2英寸的GaN基板。如果是芯片麵積較小的激光元件,還有望推出產品,但功率元件因要流過大電流,因此芯片尺寸會變大,難以獲利。
憑借兩項措施攻克三項難題
因此,POWDEC采用了使用口徑比GaN基板大且價格便宜的藍寶石基板的方法。不過,如果隻是在藍寶石基板上使GaN類半導體結晶生長,就會出現以下三個問題:①位錯等結晶缺陷較多而難以確保高耐壓;②在下麵無法形成電極,③因為是藍寶石,所以熱阻會變大。
為了解決這些問題,該公司在製造工序上采取了兩項措施。一是為在藍寶石基板上生長出高品質的GaN結晶,使用了“ELO(Epitaxial Lateral Overgrowth)”法。ELO法對藍寶石基板上施以掩模處理,使GaN結晶從掩模間隙的“窗口”部分生長出來。這時GaN結晶就會在向上生長的同時橫向生長。而橫向生長的GaN結晶在掩模上(兩翼上)的部分很少有錯位發生。
此次由於實現了幅寬100μm的橫向生長,因此實用化有了眉目。POWDEC十分興奮:“如此之長前所未有”。實際上ELO法雖是曆史很長的技術,但很難使其在橫向上長長。
兩翼上的GaN結晶的位錯密度為105~106cm-2以上。與藍紫色半導體激光器使用的GaN基板相當。而掩模窗口部分的位錯密度較高,在107cm-2以上。
另一項措施是使橫向生長的GaN結晶與藍寶石基板分離。原因是身為絕緣體的藍寶石基板會妨礙縱型構造形成。其方法雖未公布,但為了使GaN結晶與藍寶石分離,將使用帶焊錫的Si基板。
將帶有GaN結晶的藍寶石基板接近帶有焊錫的Si基板,使GaN結晶分離。這時,將GaN結晶一側靠向焊錫一側。加熱使焊錫熔化,待冷卻後將GaN結晶從藍寶石基板上剝離下來。作為掩模的SiO2與GaN結晶“不會發生化學鍵合,比較容易分離”(POWDEC)。
盡管在製造工序上采取了這兩項措施,“但與使用多層膜即緩衝層的方法相比,前工序所需的時間仍較短”(POWDEC)。
耐壓1000V、支持6英寸口徑也將是目標
通過這些製造上的措施,實現了施加620V逆電壓時泄漏電流在1mA/cm2以下的縱型二極管。按10A級元件換算,泄漏電流僅為數10μA。
今後該公司還考慮使1mm×0.2mm尺寸的元件實現實用化。長0.2mm的部分相當於上述ELO橫向生長時的幅寬。雖然目前僅在0.1mm以上,但實現這一橫寬已有了眉目。該芯片尺寸下的電流容量為1A左右。將以該尺寸的芯片為單位,利用多個元件來實現大電流化。估計還可實現數10A級的產品。
此次開發品的厚度隻有20μm,可降低導通電阻和熱阻,因此容易降低損耗、高溫工作及封裝小型化。
在耐壓方麵,POWDEC表示還可達到1000V。而且,在藍寶石基板的口徑方麵,如果準備好製造裝置,還可支持6英寸的基板。
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