詳解MOS管工作動畫原理圖
發布時間:2019-03-05 責任編輯:lina
【導讀】絕緣型場效應管的柵極與源極、柵極和漏極之間均采用SiO2絕緣層隔離,因此而得名。又因柵極為金屬鋁,故又稱為MOS管。它的柵極-源極之間的電阻比結型場效應管大得多,可達1010Ω以上,還因為它比結型場效應管溫度穩定性好、集成化時溫度簡單,而廣泛應用於大規模和超大規模集成電路中。
MOS管工作原理動畫
絕緣型場效應管的柵極與源極、柵極和漏極之間均采用SiO2絕緣層隔離,因此而得名。又因柵極為金屬鋁,故又稱為MOS管。它的柵極-源極之間的電阻比結型場效應管大得多,可達1010Ω以上,還因為它比結型場效應管溫度穩定性好、集成化時溫度簡單,而廣泛應用於大規模和超大規模集成電路中。
與結型場效應管相同,MOS管工作原理動畫示意圖也有N溝道和P溝道兩類,但每一類又分為增強型和耗盡型兩種,因此MOS管的四種類型為:N溝道增強型管、N溝道耗盡型管、P溝道增強型管、P溝道耗盡型管。凡柵極-源極電壓UGS為零時漏極電流也為零的管子均屬於增強型管,凡柵極-源極電壓UGS為零時漏極電流不為零的管子均屬於耗盡型管。
根據導電方式的不同,MOSFET又分增強型、耗盡型。所謂增強型是指:當VGS=0時管子是呈截止狀態,加上正確的VGS後,多數載流子被吸引到柵極,從而“增強”了該區域的載流子,形成導電溝道。
N溝道增強型MOSFET基本上是一種左右對稱的拓撲結構,它是在P型半導體上生成一層SiO2 薄膜絕緣層,然後用光刻工藝擴散兩個高摻雜的N型區,從N型區引出電極,一個是漏極D,一個是源極S。在源極和漏極之間的絕緣層上鍍一層金屬鋁作為柵極G。
當VGS=0 V時,漏源之間相當兩個背靠背的二極管,在D、S之間加上電壓不會在D、S間形成電流。
當柵極加有電壓時,若0<VGS<VGS(th)時,通過柵極和襯底間形成的電容電場作用,將靠近柵極下方的P型半導體中的多子空穴向下方排斥,出現了一薄層負離子的耗盡層;同時將吸引其中的少子向表層運動,但數量有限,不足以形成導電溝道,將漏極和源極溝通,所以仍然不足以形成漏極電流ID。
進一步增加VGS,當VGS>VGS(th)時( VGS(th)稱為開啟電壓),由於此時的柵極電壓已經比較強,在靠近柵極下方的P型半導體表層中聚集較多的電子,可以形成溝道,將漏極和源極溝通。如果此時加有漏源電壓,就可以形成漏極電流ID。在柵極下方形成的導電溝道中的電子,因與P型半導體的載流子空穴極性相反,故稱為反型層。隨著VGS的繼續增加,ID將不斷增加。在VGS=0V時ID=0,隻有當VGS>VGS(th)後才會出現漏極電流,所以,這種MOS管稱為增強型MOS管。
VGS對漏極電流的控製關係可用iD=f(VGS(th))|VDS=const這一曲線描述,稱為轉移特性曲線,MOS管工作原理動畫見圖1.。
轉移特性曲線的斜率gm的大小反映了柵源電壓對漏極電流的控製作用。 gm的量綱為mA/V,所以gm也稱為跨導。跨導。

圖1. 轉移特性曲線
MOS管工作原理動畫2—54(a)為N溝道增強型MOS管工作原理動畫圖,其電路符號如圖2—54(b)所示。它是用一塊摻雜濃度較低的P型矽片作為襯底,利用擴散工藝在襯底上擴散兩個高摻雜濃度的N型區(用N+表示),並在此N型區上引出兩個歐姆接觸電極,分別稱為源極(用S表示)和漏極(用D表示)。在源區、漏區之間的襯底表麵覆蓋一層二氧化矽(SiO2)絕緣層,在此絕緣層上沉積出金屬鋁層並引出電極作為柵極(用G表示)。從襯底引出一個歐姆接觸電極稱為襯底電極(用B表示)。由於柵極與其它電極之間是相互絕緣的,所以稱它為絕緣柵型場效應管。MOS管工作原理動畫圖2—54(a)中的L為溝道長度,W為溝道寬度。

圖2—54所示的MOSFET,當柵極G和源極S之間不加任何電壓,即UGS=0
時,由於漏極和源極兩個N+型區之間隔有P型襯底,相當於兩個背靠背連接的PN結,它們之間的電阻高達1012W的數量級,也就是說D、S之間不具備導電的溝道,所以無論漏、源極之間加何種極性的電壓,都不會產生漏極電流ID。
當將襯底B與源極S短接,在柵極G和源極S之間加正電壓,即UGS﹥0時,MOS管工作原理動畫圖2—55(a)所示,則在柵極與襯底之間產生一個由柵極指向襯底的電場。在這個電場的作用下,P襯chen底di表biao麵mian附fu近jin的de空kong穴xue受shou到dao排pai斥chi將jiang向xiang下xia方fang運yun動dong,電dian子zi受shou電dian場chang的de吸xi引yin向xiang襯chen底di表biao麵mian運yun動dong,與yu襯chen底di表biao麵mian的de空kong穴xue複fu合he,形xing成cheng了le一yi層ceng耗hao盡jin層ceng。如ru果guo進jin一yi步bu提ti高gaoUGS電壓,使UGS達到某一電壓UT時,P襯底表麵層中空穴全部被排斥和耗盡,而自由電子大量地被吸引到表麵層,由量變到質變,使表麵層變成了自由電子為多子的N型層,稱為“反型層”,MOS管工作原理動畫圖2—55(b)所示。反型層將漏極D和源極S兩個N+型區相連通,構成了漏、源極之間的N型導電溝道。把開始形成導電溝道所需的UGS值稱為閾值電壓或開啟電壓,用UT表示。顯然,隻有UGS﹥UT時才有溝道,而且UGS越大,溝道越厚,溝道的導通電阻越小,導電能力越強。這就是為什麼把它稱為增強型的緣故。
在UGS﹥UT的條件下,如果在漏極D和源極S之間加上正電壓UDS,daodiangoudaojiuhuiyoudianliuliutong。loujidianliuyoulouquliuxiangyuanqu,yinweigoudaoyouyidingdedianzu,suoyiyanzhegoudaochanshengdianyajiang,shigoudaogediandedianweiyangoudaoyoulouqudaoyuanquzhujianjianxiao,kaojinlouquyiduandedianyaUGD最小,其值為UGD=UGS-UDS,相應的溝道最薄;靠近源區一端的電壓最大,等於UGS,相應的溝道最厚。這樣就使得溝道厚度不再是均勻的,整個溝道呈傾斜狀。隨著UDS的增大,靠近漏區一端的溝道越來越薄。


當UDS增大到某一臨界值,使UGD≤UT時,漏端的溝道消失,隻剩下耗盡層,把這種情況稱為溝道“預夾斷”,MOS管工作原理動畫圖2—56(a)所示。繼續增大UDS(即UDS>UGS-UT),夾斷點向源極方向移動,MOS管工作原理動畫圖2—56(b)所示。盡管夾斷點在移動,但溝道區(源極S到夾斷點)的電壓降保持不變,仍等於UGS-UT。因此,UDS多餘部分電壓[UDS-(UGS-UT)]全(quan)部(bu)降(jiang)到(dao)夾(jia)斷(duan)區(qu)上(shang),在(zai)夾(jia)斷(duan)區(qu)內(nei)形(xing)成(cheng)較(jiao)強(qiang)的(de)電(dian)場(chang)。這(zhe)時(shi)電(dian)子(zi)沿(yan)溝(gou)道(dao)從(cong)源(yuan)極(ji)流(liu)向(xiang)夾(jia)斷(duan)區(qu),當(dang)電(dian)子(zi)到(dao)達(da)夾(jia)斷(duan)區(qu)邊(bian)緣(yuan)時(shi),受(shou)夾(jia)斷(duan)區(qu)強(qiang)電(dian)場(chang)的(de)作(zuo)用(yong),會(hui)很(hen)快(kuai)的(de)漂(piao)移(yi)到(dao)漏(lou)極(ji)。
耗盡型。耗盡型是指,當VGS=0時即形成溝道,加上正確的VGS時,能使多數載流子流出溝道,因而“耗盡”了載流子,使管子轉向截止。
耗盡型MOS場效應管,是在製造過程中,預先在SiO2絕緣層中摻入大量的正離子,因此,在UGS=0時,這些正離子產生的電場也能在P型襯底中“感應”出足夠的電子,形成N型導電溝道。
當UDS>0時,將產生較大的漏極電流ID。如果使UGS<0,則它將削弱正離子所形成的電場,使N溝道變窄,從而使ID減小。當UGS更負,達到某一數值時溝道消失,ID=0。使ID=0的UGS我們也稱為夾斷電壓,仍用UP表示。UGS
N溝道耗盡型MOSFET的結構與增強型MOSFET結構類似,隻有一點不同,就是N溝道耗盡型MOSFET在柵極電壓uGS=0時,溝道已經存在。該N溝道是在製造過程中應用離子注入法預先在襯底的表麵,在D、S之間製造的,稱之為初始溝道。N溝道耗盡型MOSFET的結構和符號如MOS管工作原理動畫1.(a)所示,它是在柵極下方的SiO2絕緣層中摻入了大量的金屬正離子。所以當VGS=0時,這些正離子已經感應出反型層,形成了溝道。於是,隻要有漏源電壓,就有漏極電流存在。當VGS>0時,將使ID進一步增加。VGS<0時,隨著VGS的減小漏極電流逐漸減小,直至ID=0。對應ID=0的VGS稱為夾斷電壓,用符號VGS(off)表示,有時也用VP表示。N溝道耗盡型MOSFET的轉移特性曲線如圖1.(b)所示。

圖1. N溝道耗盡型MOSFET的結構和轉移特性曲線
由於耗盡型MOSFET在uGS=0時,漏源之間的溝道已經存在,所以隻要加上uDS,就有iD流通。如果增加正向柵壓uGS,柵極與襯底之間的電場將使溝道中感應更多的電子,溝道變厚,溝道的電導增大。
如果在柵極加負電壓(即uGS<0=,就會在相對應的襯底表麵感應出正電荷,這些正電荷抵消N溝道中的電子,從而在襯底表麵產生一個耗盡層,使溝道變窄,溝道電導減小。當負柵壓增大到某一電壓Up時,耗盡區擴展到整個溝道,溝道完全被夾斷(耗盡),這時即使uDS仍存在,也不會產生漏極電流,即iD=0。UP稱為夾斷電壓或閾值電壓,其值通常在–1V–10V之間N溝道耗盡型MOSFET的輸出特性曲線和轉移特性曲線分別如圖2—60(a)、(b)所示。
在可變電阻區內,iD與uDS、uGS的關係仍為
在恒流區,iD與uGS的關係仍滿足式(2—81),即
若考慮uDS的影響,iD可近似為

對耗盡型場效應管來說,式(2—84)也可表示為
式中,IDSS稱為uGS=0時的飽和漏電流,其值為
P溝道MOSFET的工作原理與N溝道MOSFET完全相同,隻不過導電的載流子不同,供電電壓極性不同而已。這如同雙極型三極管有NPN型和PNP型一樣。
3 主要參數
(1) 直流參數
指耗盡型MOS夾斷電壓UGS=UGS(off) 、增強型MOS管開啟電壓UGS(th)、耗盡型場效應三極管的飽和漏極電流IDSS(UGS=0時所對應的漏極電流)、輸入電阻RGS.
(2) 低頻跨導gm
gm可以在轉移特性曲線上求取,單位是mS(毫西門子)。
(3) 最大漏極電流IDM
特別推薦
- 噪聲中提取真值!瑞盟科技推出MSA2240電流檢測芯片賦能多元高端測量場景
- 10MHz高頻運行!氮矽科技發布集成驅動GaN芯片,助力電源能效再攀新高
- 失真度僅0.002%!力芯微推出超低內阻、超低失真4PST模擬開關
- 一“芯”雙電!聖邦微電子發布雙輸出電源芯片,簡化AFE與音頻設計
- 一機適配萬端:金升陽推出1200W可編程電源,賦能高端裝備製造
技術文章更多>>
- 一秒檢測,成本降至萬分之一,光引科技把幾十萬的台式光譜儀“搬”到了手腕上
- AI服務器電源機櫃Power Rack HVDC MW級測試方案
- 突破工藝邊界,奎芯科技LPDDR5X IP矽驗證通過,速率達9600Mbps
- 通過直接、準確、自動測量超低範圍的氯殘留來推動反滲透膜保護
- 從技術研發到規模量產:恩智浦第三代成像雷達平台,賦能下一代自動駕駛!
技術白皮書下載更多>>
- 車規與基於V2X的車輛協同主動避撞技術展望
- 數字隔離助力新能源汽車安全隔離的新挑戰
- 汽車模塊拋負載的解決方案
- 車用連接器的安全創新應用
- Melexis Actuators Business Unit
- Position / Current Sensors - Triaxis Hall
熱門搜索
按鈕開關
白色家電
保護器件
保險絲管
北鬥定位
北高智
貝能科技
背板連接器
背光器件
編碼器型號
便攜產品
便攜醫療
變容二極管
變壓器
檳城電子
並網
撥動開關
玻璃釉電容
剝線機
薄膜電容
薄膜電阻
薄膜開關
捕魚器
步進電機
測力傳感器
測試測量
測試設備
拆解
場效應管
超霸科技



